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美國ISS是jin有的能同時提供時域TCSPC和數(shù)字頻域FastFLIM™兩種熒光壽命成像技術解決方案的公司，其推出的FLIM熒光壽命成像及熒光波動光譜升級模塊，可以讓您現(xiàn)有的共聚焦顯微鏡擁有FLIM及FCS測試功能，可適配各種顯微鏡。

ELIMISSION Z118快速LIBS光譜分析系統(tǒng)是目前市場上較常用的臺式LISB元素分析儀。*的平臺使其能夠滿足客戶對再現(xiàn)性、堅固性、jing確性、準確性和靈敏度的要求。它能夠直接分析固體樣品（例如鐵、鋁、巖石等），而不用機械加工樣品制備，以去除樣品的氧化層（如火花-OES的情況）。LIBS光譜分析是目前為止被認為wei一可以做在線分析的元素分析技術；

ELEMISSION MISSION激光誘導擊穿光譜生產(chǎn)線使用幾種高新技術以達到高吞吐量的化學分析過程。ELEMISSION MISSION LIBS激光誘導擊穿光譜快速產(chǎn)線分析系統(tǒng)符合精度、性能、吞吐流量和分析速度的*的市場標準。產(chǎn)品線能夠通過激光誘導擊穿光譜（LIBS）實時進行快速元素分析，可用到回收，礦物篩選和土壤分析等。

ISS HPCell 光譜儀通用高壓樣品倉系統(tǒng)包含壓力樣品倉，靜壓泵，控制系統(tǒng)以及數(shù)據(jù)采集模塊。整套系統(tǒng)可直接裝配于ISS公司的所有熒光光譜測試系統(tǒng)中，也可作為獨立附件適配于其他品牌的光譜儀系統(tǒng)。

半導體技術的一個重要目標是減少所有構成半導體器件中，晶體和非晶層中固有的和因生產(chǎn)工藝引起的缺陷。雜質(zhì)、晶界、晶面等引起的缺陷會導致陷阱的產(chǎn)生，陷阱可以俘獲自由電子和空穴。即使?jié)舛确浅５?，陷阱也能ji大地改變半導體器件的性能。數(shù)字化深能級瞬態(tài)譜儀DLTS是現(xiàn)在一種非常通用的技術，可用于測定與陷阱相關的幾乎所有參數(shù)，包括密度、熱界面（熱發(fā)射率）、能級和空間剖面等。